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蒸發鍍膜材料

濺射靶材
- 氧化物濺射靶材
- 高純金屬濺射靶材

坩堝、陶瓷件及清洗架

二氧化硅, SiO₂

編號	分子式	形狀	尺寸	顏色	純度	包裝
EOS2001	SiO₂	顆粒	1~3mm	無色	99.99%	1000g
EOS2002		顆粒	2~4mm
EOS2004		圓柱顆粒	Φ2x2mm
EOS2005		圓柱顆粒	Φ3x3mm
EOS2006		圓珠	Φ2.5mm直徑
EOS2007		圓片	Φ25x10mm
EOS2008		圓片	Φ30x12mm

二氧化硅性質

透光范圍：200-2500 nm 密度: 2.2 g/cm³

折射率/波長: 1.46/550 nm密度: 1713 ℃

地址：上海市嘉定區（嘉戩公路）立新路24弄6號
上海特旺光電材料有限公司版權所有技術支持：上海九易技術

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